8-915-883-64-01
(пусто)
 
Валюта:
English  Русский 

Блог / Новости

Голосование

Версия для печати Версия для печати

ГОСТ 25196-82 Оборудование вакуумное. Установки для ионной имплантации. Общие технические требования

Нет на складе

Действующий стандарт распространяется на установки, которые используются для ионной имплантации. Они используются для внедрения газообразных, твердых и жидких веществ массой от до кг. В их число входят многозарядные и элементарные ионы фосфора, селена, цинка, бора, сурьмы и мышьяка с энергией ионов равной от  до  Джоулей при производстве приборов полупроводниковых, схем интегральных и других изделий микроэлектроники.

Производство в СПб. Изоляция стальной трубы в ППУ , изготовление опор трубопроводов.

 

Есть вопросы?

Вы можете задать нам вопрос(ы) с помощью следующей формы.

Имя:

Email

Пожалуйста, сформулируйте Ваши вопросы относительно ГОСТ 25196-82 Оборудование вакуумное. Установки для ионной имплантации. Общие технические требования:


Введите число, изображенное на рисунке
code